ゼネラル、半導体を利用した小型の大気圧プラズマ表面改質装置

 ゼネラル( http://www.general.co.jp/ )は、半導体マイクロ波発振電源を利用したプラズマ表面改質装置を開発した。

ゼネラル「プラズマ照射画像と処理前後の画像」ゼネラル「プラズマ照射画像と処理前後の画像」

 同社はコーディング・マーキング用途の産業用インクジェットインクに取り組んでおり、同装置を使用することにより、これまで印字が困難であった未処理OPP、離型フィルム等の媒体表面への印字が可能となる。

 従来のプラズマ表面処理装置には、プラズマ生成に発振周波数13.56MHzの高周波電源を使用するタイプや、発振周波数2.45GHzのマグネトロンを使用するタイプなどがあるが、いずれのシステムも大型であり、大量の電力を消費する。

 一方、今回開発したプラズマ表面改質装置は、発振周波数2.45GHzの半導体マイクロ波発振電源を用いて生成した大気圧非平衡プラズマを対象物に照射することで表面処理を行う。この半導体マイクロ波発振電源は従来用いられていたマグネトロンと比較すると非常に小型・軽量であり、精密なマイクロ波の発振制御が可能だという。これら特徴を取り込むことで、システムの小型化・軽量化・省電力化を実現した。